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國內(nèi)首個自主開發(fā)180nm成套硅光工藝PDK在重慶發(fā)布
發(fā)布時間:2020-06-11 來源:中國無機鹽工業(yè)協(xié)會     分享到:

5月28-30日,第二屆中歐國際硅光技術(shù)研討會在重慶成功召開。備受期待的聯(lián)合微電子中心有限責(zé)任公司(CUMEC公司)180nm成套硅光工藝PDK(process design kit)發(fā)布會也于今(30)日成功舉辦。

這標(biāo)志著CUMEC公司具備硅基光電子領(lǐng)域全流程自主工藝制造能力,開始向全球提供硅光芯片流片服務(wù)和EPDA設(shè)計服務(wù)。


發(fā)布會上,CUMEC公司執(zhí)行董事兼總經(jīng)理韓建忠博士在現(xiàn)場致辭中表示,CUMEC公司將始終堅持開放合作的發(fā)展理念,穩(wěn)步實現(xiàn)國際一流的高端特色工藝平臺建設(shè)目標(biāo),與同行專家學(xué)者海內(nèi)外朋友一道,共同為硅基光電子技術(shù)與產(chǎn)業(yè)應(yīng)用的發(fā)展貢獻智慧和力量。

近幾年,硅光芯片被廣為提及,是世界各大國搶先布局的重點,被認(rèn)為是芯片領(lǐng)域“換道超車”的核心技術(shù)。

5G時代,數(shù)據(jù)傳輸需求越來越高,傳統(tǒng)的電芯片在信號傳輸模式上遇到了帶寬、功耗、延時等一系列瓶頸問題。將光引入芯片,可以提高傳輸性能實現(xiàn)帶寬100倍以上的增長,同時功耗和尺寸還有大幅度的降低。

硅基光電子芯片技術(shù),則是將光的極高帶寬、超快速率和高抗干擾特性,以及微電子技術(shù)在大規(guī)模集成、低成本等方面的優(yōu)勢進行結(jié)合,形成一個完整的具有綜合功能的新型大規(guī)模光電集成芯片。

這種芯片適用于5G、數(shù)據(jù)中心、無人駕駛、人工智能等領(lǐng)域。因此,在重慶的大數(shù)據(jù)智能化發(fā)展中,硅基光電子芯片極具想象空間。

歐洲硅光聯(lián)盟主席、比利時根特大學(xué)教授、imec高級研究員Roel Baets從比利時發(fā)來線上致辭,他表示,硅基光電子技術(shù)作為一項新興技術(shù)正在快速發(fā)展,產(chǎn)業(yè)化速度亦在不斷加快,CUMEC公司發(fā)布的180nm成套硅光工藝PDK令人振奮,相比集成電路工業(yè)無比成熟的PDK,硅基光電子領(lǐng)域的PDK雖然已經(jīng)出現(xiàn)了幾個,但是還很單薄,還在發(fā)展的早期,CUMEC公司發(fā)布的PDK是硅光領(lǐng)域的一大進步。

科普:

       硅基光電子學(xué)是探討微米/納米級光子、電子、及光電子器件的新穎工作原理,并使用與硅基集成電路技術(shù)兼容的技術(shù)和方法,單片或混合集成在同一硅襯底上的一門科學(xué)。

      硅基光電子學(xué)擬解決的關(guān)鍵問題包括: 微納米范圍之內(nèi)的光電相互作用及影響,微納范圍內(nèi)光-光,光-熱、光-機,光-磁,光-生化等的傳感行為,微納光電器件的計算機模擬,微納光電器件的耦合,微納傳感器件的集成,微弱信號的探測與放大,微納薄膜技術(shù),電子束光刻,納米壓印技術(shù),聚焦離子束加工,高精度等離子體工藝等。

       硅基光電子學(xué)目前最迫切的需求來源于高速度,大容量,低成本的計算機網(wǎng)絡(luò),寬帶通信網(wǎng)絡(luò),物聯(lián)傳感網(wǎng)絡(luò),以及大數(shù)據(jù)中心。




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